德國德爾格Drager CMS 芯片測量系統
全球唯一的芯片測量系統（CMS）使現場測量就像 1、2、3 一樣簡單：插入芯片 – 開始測量 – 讀取測量結果顯示在 LCD 顯示屏上。Dräger CMS 結合了德爾格管與光電分析的優勢系統。
Dräger CMS 只需簡短的說明即可使用。哪種氣體或蒸氣沒有區別希望測量 – 儀器每次都以相同的方式使用。該操作由菜單指導顯示屏和單個按鈕/開關。顯示屏可以背光，并提供德語、英語、法語版本或西班牙語。自動系統自檢后，分析儀通電，測量系統立即準備運行。只需插入芯片，執行測量并讀取測量值結果在屏幕上顯示為濃度。在測量結束時，芯片自動從儀器中彈出，分析儀關閉。每個操作步驟后都會發出聲音信號
電源由四個標準且易于更換的電池供電，特別適合分析儀的要求（見技術數據）。電池容量允許超過七個小時的測量，當然，始終顯示在屏幕。
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德爾格 Drager CMS 芯片測量系統
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德爾格 Drager CMS 芯片測量系統
德國德爾格 Drager CMS 芯片測量系統 特性優點
準確
- ● 質量電流測量的原理確保儀器不受空氣波動的影響壓力。由于芯片在出廠前已校準，因此用戶無需校準德爾格 CMS。在工廠校準期間檢查任何可能的溫度和濕度影響。
- ● 該分析儀具有防爆保護，并通過了 ATEX（歐洲）、UL（美國和加拿大）和CSA（加拿大和美國）。此外，該系統還具有符合 IP 54 的防塵和防濺水保護，并可抵抗電磁波。
遠程系統
- ● 為了允許在難以進入的地方進行測量，可以使用遠程系統。這包括一個額外的泵和延長軟管，并連接到分析儀的背面。
- ● 由于遠程系統由其自己的開關激活，因此系統可以保持與分析儀的連接。一個伸縮探頭也可以連接到遠程系統。
Dräger CMS 芯片
- ● 適用于一種氣體的 10 次測量。自動向分析儀提供校準數據和相應氣體的測量范圍
德國德爾格 Drager CMS 芯片測量系統 產品配件
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德爾格 Drager CMS 芯片測量系統
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德爾格 Drager CMS 芯片測量系統
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德爾格 Drager CMS 芯片測量系統
德國德爾格 Drager CMS 芯片測量系統 技術參數
| 測量范圍和分辨率 |
取決于所使用的芯片類型 – 請參閱芯片列表 |
| 典型測量時間 |
在 20 秒到 3 分鐘之間，取決于濃度氣體或蒸氣以及所用芯片的類型在特殊危險的情況下，20秒至10分鐘之間氣體 |
| 準備測量 |
馬上 |
| 運行期間的溫度 |
0 to 40 °C |
| 儲存期間的溫度 |
-20 to +60 °C (Analyzer)
< 25 °C (chips) |
| 氣壓 |
700 to 1,100 hPa |
| 濕度 |
0 至 95 % 相對濕度，無冷凝 |
| 記錄測量值 |
六重光學和光導體系統，反射測量 |
| 系統診斷 |
自動，所有系統組件均配備微控制器 |
| 顯示 |
LCD，字母數字，帶背光 |
| 菜單語言 |
英語、德語、法語、西班牙語 |
| 工作時間 |
約 450 分鐘的測量 |
電源
4 × 1.5 V 電池
來自以下類型： |
Ralsten （Energizer） 堿性 LR6 Duracell MN 1500 LR6 可充電堿性 AA（僅與充電器：Rayovac Charger PS1 或 PS3） |
| 重量 |
730 g （帶電池的分析儀） |
| 尺寸（長 × 寬 × 高） |
215 mm × 105 mm × 65 mm |
| 批準 |
ATEX; II 2G Ex ib II C T4 Gb
UL (USA & Canada) Class 1, Div. 1, Groups A, B, C, D, Temp. Code T4,
CSA (Canada & USA) Class 1, Div. 1, Groups A, B, C, D, Ex ia,
Temp. Code T4 |
| 防護等級 |
IP 54 防塵和防濺保護 |
德國德爾格 Drager CMS 芯片測量系統 檢測量程
| 描述 |
測量范圍 |
訂貨號 |
| 乙酸 |
2 – 50 ppm |
64 06 330 |
| 丙酮 |
40 – 600 ppm |
64 06 470 |
| 氨 |
0.2 – 5 ppm |
64 06 550 |
| 氨 |
2 – 50 ppm |
64 06 130 |
| 氨 |
10 – 150 ppm |
64 06 020 |
| 氨 |
100 – 2,000 ppm |
64 06 570 |
| 苯 |
50 – 2,500 ppb |
64 06 600 |
| 苯 |
0.2 – 10 ppm |
64 06 030 |
| 苯 |
0.5 – 10 ppm |
64 06 160 |
| 苯 |
10 – 250 ppm |
64 06 280 |
| 丁二烯 |
1 – 25 ppm |
64 06 460 |
| 二氧化碳 |
200 – 3000 ppm |
64 06 190 |
| 二氧化碳 |
1,000 – 25,000 ppm |
64 06 070 |
| 二氧化碳 |
1 – 20 Vol.-% |
64 06 210 |
| 一氧化碳 |
5 – 150 ppm |
64 06 080 |
| 氯 |
0.2 – 10 ppm |
64 06 010 |
| 乙醇 |
100 – 2,500 ppm |
64 06 370 |
| 環氧乙烷 |
0.4 – 5 ppm |
64 06 580 |
| 甲醛 |
0.2 – 5 ppm |
64 06 540 |
| 氫氰酸 |
2 – 50 ppm |
64 06 100 |
| 氫氰酸 |
1 – 25 ppm |
64 06 090 |
| 氫氰酸 |
20 – 500 ppm |
64 06 140 |
| 過氧化氫 |
0.2 – 2 ppm |
64 06 440 |
| 硫化氫 |
0.2 – 5 ppm |
64 06 520 |
| 硫化氫 |
2 – 50 ppm |
64 06 050 |
| 硫化氫 |
20 – 500 ppm |
64 06 150 |
| 硫化氫 |
100 – 2,500 ppm |
64 06 220 |
| 硫醇 |
0.25 – 6 ppm |
64 06 360 |
| 甲醇 |
20 – 500 ppm |
64 06 380 |
| 二氯甲烷 |
20 – 400 ppm |
64 06 510 |
| MTBE |
10 – 200 ppm |
64 06 530 |
| 二氧化鎳鐵 |
0.5 – 25 ppm |
64 06 120 |
| 亞硝煙 |
0.5 – 15 ppm |
64 06 060 |
| 亞硝煙 |
10 – 200 ppm |
64 06 240 |
| Ozone |
25 – 1,000 ppb |
64 06 430 |
| 氧 |
1 – 30 Vol.-% |
64 06 490 |
| 鄰二甲苯 |
10 – 300 ppm |
64 06 260 |
| 石油烴 |
20 – 500 ppm |
64 06 200 |
| 石油烴 |
100 – 3,000 ppm |
64 06 270 |
| 四氯乙烯 |
5 – 500 ppm |
64 06 040 |
| 光氣 |
0.05 – 2 ppm |
64 06 340 |
| 磷化氫 |
0.1 – 2.5 ppm |
64 06 400 |
| 磷化氫 |
1 – 25 ppm |
64 06 410 |
| 磷化氫 |
20 – 500 ppm |
64 06 420 |
| 磷化氫 |
200 – 5,000 ppm |
64 06 500 |
| 丙烷 |
100 – 2,000 ppm |
64 06 310 |
| 異丙醇 |
40 – 1,000 ppm |
64 06 390 |
| 二氧化硫 |
0.4 – 10 ppm |
64 06 110 |
| 二氧化硫 |
5 – 150 ppm |
64 06 180 |
| 苯乙烯 |
2 – 40 ppm |
64 06 560 |
| 甲苯 |
10 – 300 ppm |
64 06 250 |
| 三氯乙烯 |
5 – 100 ppm |
64 06 320 |
| 氯乙烯 |
0.3 – 10 ppm |
64 06 170 |
| 氯乙烯 |
10 – 250 ppm |
64 06 230 |
| 水蒸氣 |
0.4 – 10 mg/L |
64 06 450 |
| 訓練芯片 |
模擬 |
64 06 290 |
