通過(guò)認(rèn)證 
低排放的制氫方式在追求減排的當(dāng)下逐漸受到了科研團(tuán)隊(duì)的關(guān)注，譬如涂有釩酸鉍 (BiVO4)材料的光伏電池可通過(guò)直接轉(zhuǎn)化陽(yáng)光來(lái)產(chǎn)生氫氣。那么，如何制成理想的釩酸鉍涂層就是相關(guān)科研人員面對(duì)的挑戰(zhàn)。
Palas® RBG 1000 ISD型氣溶膠發(fā)生器憑借不同壓力條件下的穩(wěn)定發(fā)塵，為科研人員在使用氣溶膠沉積法(AD)制作釩酸鉍涂層時(shí)提供了可信賴的測(cè)試數(shù)據(jù)，助力人們深入尋找低碳環(huán)保的氫燃料生產(chǎn)方式。
亟需研究的氣溶膠沉積法
由于釩酸鉍在太陽(yáng)光譜的可見(jiàn)光范圍內(nèi)表現(xiàn)出光吸收，因此該材料適合用作進(jìn)行分解生產(chǎn)氫氣的光伏電池涂層，科研人員也傾向用氣溶膠沉積法來(lái)生產(chǎn)釩酸鉍涂層，因?yàn)檫@種方法不會(huì)產(chǎn)生那些可能降低光化學(xué)活性的有害雜質(zhì)或殘留。然而，獲得理想的釩酸鉍涂層需要在不同的壓力條件下進(jìn)行對(duì)比實(shí)驗(yàn)。在Palas® RBG 1000 ISD型氣溶膠發(fā)生器為此次實(shí)驗(yàn)提供高達(dá)3 bar超壓條件下的穩(wěn)定運(yùn)行之前，科研界仍然缺少著針對(duì)釩酸鉍氣溶膠沉積的有效原料尺寸和噴霧參數(shù)設(shè)置的系統(tǒng)性研究。
氣溶膠沉積法原理示意圖
氣溶膠通過(guò)氣溶膠發(fā)生器產(chǎn)生后，直接送入主工藝氣流中。經(jīng)過(guò)會(huì)聚噴嘴的流動(dòng)和氣體進(jìn)入真空室的膨脹，氣溶膠加速到高達(dá) 350 m/s的高速。真空室可以盡可能減少與周圍大氣的相互作用，并減少基板前面的弓形激波效應(yīng)，從而防止細(xì)粉末隨氣流偏轉(zhuǎn)。
使用專門設(shè)計(jì)的設(shè)備進(jìn)行氣溶膠沉積，確保明確定義和可重現(xiàn)的工藝氣體與腔壓。BiVO4 粉末在原樣和不同研磨狀態(tài)下通過(guò)氣溶膠沉積進(jìn)行噴涂。在 10、20 和 40 l/min 的氣流下，氮?dú)馔瑫r(shí)作為載體和工藝氣體，分別對(duì)應(yīng)于 1.0、1.3 和2.1 bar的工藝氣體壓力。真空室的基礎(chǔ)壓力保持在約0.3 mbar。噴涂距離設(shè)置為 30 mm，基板以15 mm/s的移動(dòng)速度通過(guò)氣溶膠氣流。基板涂有兩層以研究理想的參數(shù)方案。
可靠的Palas®氣溶膠發(fā)生器
Palas® RBG 1000 ISD型氣溶膠發(fā)生器可在高達(dá)3 bar壓力條件下內(nèi)提供穩(wěn)定性強(qiáng)和高重復(fù)性的粉塵氣溶膠。該發(fā)生器提供了不同規(guī)格的耐壓儲(chǔ)粉罐組合，可以提供質(zhì)量流量為0.04 – 430 g/h范圍內(nèi)的粉塵氣溶膠，從而應(yīng)對(duì)不同濃度下的實(shí)驗(yàn)需求。
在研究釩酸鉍涂層的實(shí)驗(yàn)中，科研人員多次調(diào)整發(fā)生器所用氮?dú)獾捏w積流量來(lái)獲得不同的釩酸鉍涂層形成效果。RBG發(fā)生器的穩(wěn)定發(fā)塵能力讓人們獲得了可靠的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，從而得出較大粒徑的粉末需要較高的氣壓才能順利形成涂層，而較高的壓力則能幫助大部分不同粒徑的粉末在沉積過(guò)程中形成涂層。此外，Palas® Z1000和Z500旋風(fēng)分離器從實(shí)驗(yàn)氣溶膠中剔除掉不需要的較大粒徑顆粒物，與RBG一起助力讓實(shí)驗(yàn)在穩(wěn)定的條件下進(jìn)行。
2022年德國(guó)Palas®推出新款RBG系列，在RBG 1000 ISD等產(chǎn)品基礎(chǔ)上極大的提升了性能。支持使用粉末、花粉和整體固體中產(chǎn)生粉塵氣溶膠，質(zhì)量流量約為 40 mg/h – 800 g/h，三款新型氣溶膠發(fā)生器 RBG professional、RBG basic和 RBG solo可滿足從研究到質(zhì)量保證以及校準(zhǔn)的要求。
〓產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
- ■ 高達(dá)10 bar耐壓
- ■更寬的質(zhì)量流量范圍
- ■低至8 mg/m3穩(wěn)定發(fā)塵
- ■100小時(shí)連續(xù)工作
- ■遠(yuǎn)程控制
〓應(yīng)用領(lǐng)域
- ■ 過(guò)濾器測(cè)試
- ■過(guò)濾器和過(guò)濾材料的研發(fā)
- ■測(cè)量設(shè)備的校準(zhǔn)
- ■顆粒物圖像速度測(cè)量
- ■呼吸暴露測(cè)試
- ■口罩過(guò)濾測(cè)試
