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HI84100 食品行業二氧化硫滴定分析儀
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將最先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。
主要性能特點
* 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
* 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果。
* 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
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測量項目 |
技術參數描述 |
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測量范圍 |
0 to 400 ppm (mg/L) SO2 |
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解析度 |
1 ppm (mg/L) |
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|
測量精度 |
讀數的5% |
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測量方法 |
滴定法 |
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測量原理 |
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樣品取樣量 |
50 mL |
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氧化還原電極類型 |
HI 3148B/50食品專用玻璃復合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C |
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定量泵設置 |
流量設置為：0.5 mL/min |
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|
磁力攪拌設置 |
攪拌速率設置為：1500 rpm |
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適用環境 |
0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無冷凝 |
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電源模式 |
AC230V/60 Hz；10VA |
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尺寸重量 |
主機尺寸：208 x 214 x 163 mm? 主機重量：2200 g |
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pH值與游離二氧化硫轉換關系 |
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相關項目 |
pH值與游離二氧化硫轉換對應值 |
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|
pH值 |
3.0pH |
3.1 pH |
3.2 pH |
3.3 pH |
3.4 pH |
3.5 pH |
3.6 pH |
3.7 pH |
3.8 pH |
3.9 pH |
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|
游離二氧化硫（ppm） |
14 |
18 |
22 |
28 |
35 |
44 |
55 |
69 |
87 |
109 |
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HI84100 食品行業二氧化硫滴定分析儀
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將最先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。
HI84100 食品行業二氧化硫滴定分析儀
主要性能特點
* 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
* 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果。
* 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
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測量項目 |
技術參數描述 |
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測量范圍 |
0 to 400 ppm (mg/L) SO2 |
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解析度 |
1 ppm (mg/L) |
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測量精度 |
讀數的5% |
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測量方法 |
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測量原理 |
等電位氧化還原滴定法 |
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樣品取樣量 |
50 mL |
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氧化還原電極類型 |
HI 3148B/50食品專用玻璃復合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C |
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定量泵設置 |
流量設置為：0.5 mL/min |
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磁力攪拌設置 |
攪拌速率設置為：1500 rpm |
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適用環境 |
0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無冷凝 |
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電源模式 |
AC230V/60 Hz；10VA |
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尺寸重量 |
主機尺寸：208 x 214 x 163 mm? 主機重量：2200 g |
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相關項目 |
pH值與游離二氧化硫轉換對應值 |
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pH值 |
3.0pH |
3.1 pH |
3.2 pH |
3.3 pH |
3.4 pH |
3.5 pH |
3.6 pH |
3.7 pH |
3.8 pH |
3.9 pH |
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游離二氧化硫（ppm） |
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