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公司基本資料信息
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產(chǎn)品介紹:
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時將最先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
1、基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電極測量于一體。
2、性能優(yōu)良操作簡單,可直接顯示測量結(jié)果。
3、人性化設(shè)計,具有穩(wěn)定標(biāo)識和校準(zhǔn)信息等顯示功能。
4、殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度。
5、通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
6、當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
技術(shù)參數(shù):
測量項目 |
二氧化硫 |
量程 |
0 to 400 ppm of SO2 |
解析度 |
1 ppm |
精度 |
讀數(shù)的5% |
測量方法 |
滴定法 |
測量原理 |
等電位氧化還原滴定法 |
取樣量 |
50 mL |
ORP 電極 |
HI 3148B |
泵流量 |
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攪拌速率 |
1500 rpm |
適用環(huán)境 |
0 to 50°C(32 to122°F); max 95% RH無冷凝 |
供電方式 |
220V/60 Hz; 10VA |
尺寸重量 |
208 x 214 x163 mm;2200 g |
儀器采購、咨詢聯(lián)系電話:010-82752485 84459140 ? 84459534 ?