英國Ossila精密型狹縫擠出式涂布機功能特征

節省空間的設計。 Ossila狹縫擠出式涂布機設計時充分考慮到實驗室空間的高效利用。形體小巧，在標準實驗臺、通風柜，甚至在手套箱中都可以使用。

容易安裝。即插即用。不需要壓縮氣體或真空管道，可以很容易地在不同實驗室之間和不同環境之間移動。

高跨網涂層均一度。將一個簡單的衣架設計應用于溶液分配，使通過涂布頭寬度的流速達到均一。這樣使所有粘度范圍的溶液涂布都能達到非常高的均一性。不銹鋼材質狹縫擠出式涂布頭可兼容的材料范圍非常廣泛。

通道厚度可變。不銹鋼墊片可互換，用戶可以改變狹縫擠出通道厚度。這就拓展了單一狹縫擠出頭可處理的不同溶液范圍。用戶可以插入多個墊片來改變通道厚度，梯度以100μm遞增。

均一的流率和厚度。我們的狹縫擠出式涂布系統帶有一個內置注射泵。用戶可以精確控制達到狹縫擠出系統的溶液量，從而對沉積膜的厚度進行精確和可重復的控制。內置注射器泵是由相同的內部軟件進行控制，不需要任何外部控制，你可以編程你的實驗的同步開始時間。

溫度控制。平臺有一個內置電熱板，基片溫度可以控制在高120°C。此外，可以在軟件中設置環境高氣流的溫度補償，以糾正基片和電熱板溫度之間的差異。基片溫度的控制通過減少溶液的表面張力來提高溶液潤濕度，同時干燥率可以設置，使你可以改變沉積薄膜的納米結構。

基片速度范圍廣泛。我們的機動平臺能夠平滑連續的運動。電機移動速度從低至1毫米/分鐘，快可達50 mm/秒。該系統具有廣泛的加工窗口，用于彎月面的控制。

精準定位。通過使用三點調平系統和高精度測微儀可以精確調整平臺和涂布頭之間的位置。仔細對齊可以使系統在平臺行程范圍內實現低至1um/厘米的高度變化。

涂布頭高度控制。涂布頭架上方預留了兩個微米的空間，用于調節涂布頭和平臺之間的位置。通過改變高度可以提高彎月面的穩定性，并可以改變濕膜小厚度。

英國Ossila精密型狹縫擠出式涂布機內置軟件

Ossila其他產品的直觀的且易操作的內置軟件已納入我們的狹縫擠出式涂布機。全彩液晶顯示器，視野清晰明亮，內置軟件可進行多步驟復雜編程，使你可以獨立控制系統的不同部分。所有部件都是內置的，不需要任何外部計算機控制-經濟，節省實驗室空間。

狹縫擠出式涂布系統能夠保存20個不同的程序，每個程序步驟多達50步。進行步驟編程時，用戶可以選擇不同的溶液分配流速、分配體積、分配時間、平臺速度，以及平臺移動距離。結合操作簡單的控制面板和用戶界面，系統編程可以很快完成。

像我們的注射泵系統一樣，我們的狹縫擠出式涂布機也有各種安全特性，以確保用戶的安全。注射泵有大力量設置，可以減少玻璃注射器受損的機會。此外，安全互鎖裝置會在行程結束時鎖住系統，防止系統墜落(注射泵和電動平臺均適用)。

英國Ossila精密型狹縫擠出式涂布機應用領域

狹縫擠出式涂布機應用范圍廣泛，包括:

· 有機光伏電池

· 有機場效應晶體管

· 導電聚合物

· 納米線和納米管

· 二維材料

· 有機發光二極管和鈣鈦礦發光二極管

· 鈣鈦礦光伏電池

· 鋰離子電池的電解質和電極

· 染色敏感性太陽能電池

和多的應用……

英國Ossila精密型狹縫擠出式涂布機技術規格

請注意：技術規格可能會有變更。如果有任何具體細節你想知道但未列出，請與我們聯系。

英國Ossila精密型狹縫擠出式涂布機技術概述

兼容輥對輥沉積工藝—狹縫擠出式涂布是許多種可以納入基于輥對輥和板對板沉積工藝眾多沉積方法之一。此方法的優點是可以通過將涂布機集成到一個在線系統中，以達到提升產量、大幅度降低薄膜電子設備的整體生產成本的目的。

簡單可靠—狹縫擠出式涂布是一種可靠的制造薄濕膜片的技術，多米長度涂層厚度變化小于2%。涂層厚度是通過改變溶液流量、基片速度進行控制。通過對幾個不同幾何參數的設置可以降低涂層缺陷的機率(不改變涂層厚度)。

研究領域應用—盡管狹縫擠出式涂布是一項非常強大的技術，但在薄膜電子應用領域的研究和開發目前非常有限。因為它主要是一項工業技術，即使簡單的系統價格也很高，因為狹縫擠出式涂布機的制造商定位的是工業領域而非學術界。此外，這些常規的涂布系統通常很大、很復雜，對于剛剛開始沉積薄膜開發所需的處理技術的科研人員來說并不適合。Ossila的 狹縫擠出式涂布機形體小巧，操作方便，適合在實驗室使用，這使科研人員在實驗室中使用狹縫擠出式涂布機成為可能，并使科研人員能夠優化溶劑配方和工藝參數—而不需要大量的打印運行。最終，Ossila狹縫擠出式涂布將有助于研究人員確保他們的研究結果在實際大規模應用中的落地。

膜片厚度可控- 狹縫擠出式涂布是一種前測量涂層技術，濕膜沉積的厚度僅取決于溶液流量、底片速度和涂層寬度。當把溶液濃度和材料密度考慮在內，就有可能確定干膜厚度，即下述的方程：

方程調節的是狹縫擠出式涂層的厚度。d是涂層厚度(厘米),f是流量(立方厘米/分鐘),v是涂層速度(厘米/分鐘),w是涂層寬度(厘米),c是溶劑濃度(克/立方厘米),ρ是干膜的密度(克/立方厘米)。

無缺陷涂層 - 狹縫擠出涂布依賴于穩定的涂層珠的形成。這個珠由上游和下游的半月面組成，需要固定在狹縫擠出涂布頭的邊緣。通過來自平衡涂布頭的流量和基片表面的粘性流，這個珠可以穩定下來。用戶可以改變各種參數，來改變這兩個相互競爭的流—這包括溶液流量、底片速度，涂布頭高度，溶液潤濕度和狹縫擠出頭通道厚度。這可以有多種方式，在穩定的涂層加工窗口可以應用多種方式，從而獲得無缺陷的膜片。