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公司基本資料信息
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>在實際的開發和質量控制應用中，Palas®的MFP過濾器測試臺已經在世界各地經過多次驗證。
>MFP Nanoplus專門設計用于根據DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準精確測定HEPA和ULPA過濾介質的分離效率而計。
>U-SMPS形式、現代且功能強大的納米顆粒測量設備可將用于5 nm到1 µm范圍粒度測量和量化分析。
>借助通用氣溶膠發生器UGF 2000，可以用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產與MMPS范圍相匹配的準確氣溶膠分布。
>由于采用可移動稀釋液級聯，因此可以在非常短的時間內將測試設備從使用鹽霧劑轉換為DEHS霧劑，而無需清洗。
>測試序列的高度自動化設置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調整程序相結合，共同提供高度可靠的測量結果。
>MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質和小微型過濾器的模塊化過濾器測試系統。可以在很短的時間內確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷，既可靠又具有成本效益。
>我們的質量細節
>Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS并評估數據。
>將氣溶膠分布調整到MPPS范圍
>通過適當調整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano plus中的相關MPPS范圍匹配。
圖1：使用DEHS調整所需MPPS范圍的粒徑
圖2：比較140 nm粒徑MPPS范圍內的餾分分離效率
>自動化：
>MFP Nano +集成有質量流量控制器，可用于控制體積流量；可以通過FTControl過濾器測試軟件自動監視和控制這些流量。在過濾器測試期間，還會自動記錄傳感器數據，例如過濾器流量和壓差。在沒有稀釋系數與分離效率（10、100、1,000或10,000）相匹配的過濾介質情況下進行原始氣體測量。然后，在不稀釋并插入過濾介質的情況下進行清潔氣體測量。稀釋系數的改變是自動執行的。
>稀釋系數的驗證：
圖3：將原始氣體/清潔氣體與10倍NaCl顆粒進行比較來驗證稀釋系統數
>集成在MFP Nanoplus中的稀釋系統的工作原理與采用噴射原理的成熟的VKL系列相同。 這種稀釋級聯的優點是傳輸過程清晰、污染程度低而且容易清洗。
> 使用MFP Nanoplus，可以在MPPS范圍內以及整個測量范圍內進行餾分分離效率測量。 另外，在相關的流入速度下，清楚地確定介質相關壓力損失。
| 測量范圍（尺寸） | U-SMPS 2050: 10 – 800 nm |
| 體積流量 | 0.48 – 5.76立方米/小時（加壓模式） |
| 外型尺寸 | approx. 600 • 1,800 • 900 毫米（寬•高•深） |
| 電源 | 115/230 V, 50/60 Hz |
| 流入速度 | 1.3 – 16厘米/秒（其他可根據要求提供） |
| 壓差測量 | 0 – 2,500 Pa（其他可根據要求提供） |
| 介質測試區 | 100平方厘米 |
| 氣溶膠 | 灰塵（例如SAE灰塵），鹽（例如NaCl，KCl），液體氣溶膠（例如DEHS） |
| 壓縮空氣供應 | 6 – 8 bar |
儀器采購、咨詢聯系電話：010-82752485 84459140 ? 84459534 ?
