產(chǎn)品介紹:
HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時(shí)將最先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
1、基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測(cè)量于一體。
2、性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測(cè)量結(jié)果。
3、人性化設(shè)計(jì)，具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能。
4、殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
5、通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
6、當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
技術(shù)參數(shù)：
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測(cè)量項(xiàng)目 |
二氧化硫 |
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量程 |
0 to 400 ppm of SO2 |
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解析度 |
1 ppm |
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精度 |
讀數(shù)的5% |
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測(cè)量方法 |
滴定法 |
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測(cè)量原理 |
等電位氧化還原滴定法 |
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取樣量 |
50 mL |
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ORP 電極 |
HI 3148B |
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泵流量 |
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攪拌速率 |
1500 rpm |
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適用環(huán)境 |
0 to 50°C(32 to122°F); max 95% RH無冷凝 |
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供電方式 |
220V/60 Hz; 10VA |
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尺寸重量 |
208 x 214 x163 mm；2200 g |
