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PECVD-601化學氣相沉積設備應用方向：科研與教學
PECVD-601化學氣相沉積設備產品優勢： 高性能薄膜制備
PECVD-601化學氣相沉積設備產品配置：
★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸
★沉積材料：包括并不限于硅基（Si）薄膜、碳基（C）薄膜、硅鍺合金（SiGe）、鎢硅合金（WSi2）、W、SiC。
★沉積腔體：高真空系統
★沉積不均勻性：±3%-±6%
★沉積速率：20-600nm/min（視具體材料與工藝）
★工作臺：可升降，高度可調
★加熱：常規加熱，可選高溫加熱
★電源配置：射頻；直流偏壓
★氣路數量與種類：標配4路氣路 或 用戶選配
★光學性能監測：可選配橢偏儀在線監測系統
★漸變折射率薄膜制備：可選配快速流量變化與控制系統
★操作模式：全自動+半自動控制